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据科技媒体 ComputerBase 报道,intel在其最新战略调整中决定停止内部开发玻璃基板(glass ...
该董事指出,未来的重点可能从单纯依赖光刻机缩小特征尺寸,转向更复杂、更关键的刻蚀工艺,以确保这些新型三维晶体管结构的精确成型。这预示着芯片制造技术路线可能迎来重大转变。
Intel 产品PPT遭泄露:Nova Lake单核多核性能都提升明显,最高可达60%近期,Videocardz放出了一张号称是英特尔 Nova Lake的官方PPT截图,截图显示,Intel下一代桌面处理器架构Nova Lake将带来显著的性能跃升 ...
57 分钟on MSN
光刻机领域的巨头ASML在2023年末向Intel成功交付了全球首套高数值孔径(High-NA)EUV光刻机,型号为TWINSCAN EXE:5000。这一举动在当时被业界广泛认为是对先进芯片研发及下一代处理器生产具有重大意义的里程碑。 然而,时至今日,业界风向似乎有所转变。多家晶圆代工厂开始减少对High-NA ...
6 小时on MSN
快科技7月4日消息,据Moore's Law Is Dead(MLID)最新透露,AMD下一代Zen 6架构CPU将带来明显的IPC提升,以及多层3D V-Cache技术。 明年Intel和AMD将分别推出下一代Nova Lake和Zen ...
当我们谈论 macOS Tahoe 时,我们在谈论什么? 大部分讨论都集中在这个全新的液态玻璃设计,或者消失的启动台,还有那个变来变去的访达图标。 但或许没那么为人所知的是,macOS Tahoe 将会是最后一代支持 Intel 处理器 Mac ...
根据最新消息,陈立武责成公司拟定一系列将在董事会上讨论的方案,其中包含是否停止向新客户推销 Intel 18A (-P) 先进制程工艺。 Intel方面对此类“假设情况或市场猜测”不予置评,但表示Intel ...
2 小时on MSN
快科技7月4日消息,2023年末,光刻机巨头ASML向Intel交付首套高数值孔径High-NA EUV光刻机,型号为 TWINSCAN EXE:5000。 当时业界普遍认为,High-NA EUV将对先进芯片开发和下代处理器生产发挥关键作用。 但时至今日, 各大晶圆代工厂都在减少依赖High-NA EUV,延后导入时间。 特别是Intel董事发言,让市场对High-NA EUV光刻机的前景产生更 ...
科技媒体报道,英特尔近期正在对其发展战略进行调整。此前,公司首席执行官陈立武推动了一系列改革举措,其中包括对Intel 18A(-P)工艺是否继续向新客户推广的重新评估,同时也正在考虑放弃自主研发玻璃基板,转而通过外部采购的方式来加快产品开发进程。
Intel再迎高层人事变动,首席战略官SafroaduYeboah-Amankwah将于当地时间6月30日离任。据透露,自2020年起担任Intel首席战略官的Yeboah-Amankwah将于6月30日离职,Intel也证实了这一消息。值得一提的是 ...
它介于云端、本地之间,可以接手一些云端的业务处理需求,不需要和云端来回传输大量数据,从而降低延迟、削减成本,而且往往涉及很多AI负载,比如物体检测、语音识别、异常检测、视频流处理等等。
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电子纸进军笔记本触摸板!E Ink结合Intel Smart Base打造全新AIPC互动新体验E Ink元太科技宣布运用Intel Smart Base技术、Intel Innovation Platform Framework生态系统与Intel AI Assistant Builder的科技,打造电子纸创新应用,推出崭新的笔记本电子纸触摸 ...
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